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真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

怎么測量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度

1、通常采用下述三種方法來測量鍍鋁膜的厚度：

A.光密度法:即以光線透過鍍鋁膜的密度來測量。用光密度法測量鍍鋁膜的厚度方便、準確。

B.采用表面方塊電阻測量法，這種方法比較簡單實用。通常來說，鋁層厚度對應的表面電阻一般在1~2之間。

C.目測估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對著日光燈或天空看，pet彩色鍍鋁膜定做廠家，以看不見的光線為準，鍍層厚度應達400?以上。

2、鍍鋁牢度

一般是用膠帶來檢測鍍鋁牢度的。

具體方法為：把長約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，彩色鍍鋁膜，另一只手勻速剝離膠粘帶，pet彩色鍍鋁膜包裝價格，再用帶強光的燈箱檢驗鋁層脫落轉(zhuǎn)移的情況便可。

或者把一種特別制備的試驗膜與PET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗機剝離，測定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉(zhuǎn)移情況。

3、鍍鋁膜鍍層的均勻度

電阻層電阻的偏差，實際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測樣品橫向等距離地取8~10個規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測量儀分別測出方塊的電阻值，取其算數(shù)平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。

鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復合軟包裝材料，其中常用的加工方法當數(shù)真空鍍鋁法，就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁融化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。

鍍鋁膜指的是通過真空鍍鋁機在專用型基材薄膜上，利用高溫將鋁氣化沉淀的原理進行蒸鍍生產(chǎn)的薄膜，pet彩色鍍鋁膜訂做加工多少錢，鍍鋁膜具有亮閃閃的外觀，近似于鋁箔，一般被鍍鋁的基材主要有三類：OPP和CPP、PET，鍍鋁膜具有一定的阻隔性能，要優(yōu)于未鍍鋁前。其實鍍鋁膜就是將塑料薄膜，如PET薄膜，OPP薄膜，PVC薄膜，當然還有別的薄膜，都可以，置入真空鍍鋁機。

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