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真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程

真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測(cè)厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉(zhuǎn)移法和直接蒸鍍法兩種。

（1） 轉(zhuǎn)移法是借助載體膜將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。

（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過(guò)真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬烧婵斟冧X膜的一種工藝。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時(shí)，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時(shí)，需要在鍍鋁前進(jìn)行表面涂布。另，在蒸鍍過(guò)程中要求基材的揮發(fā)物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有一定的限度；也就是說(shuō)直接蒸鍍法對(duì)基材的適用范圍有較大的局限性。

真空鍍鋁對(duì)被鍍基材的要求：

（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，即基材應(yīng)具有一定的強(qiáng)度和表面平滑度；挺度和摩擦系數(shù)適當(dāng)。

（2） 耐熱性好，基材經(jīng)得起蒸發(fā)源的熱輻射和蒸發(fā)物的冷凝潛熱，基材含水量低于0.1%。。

（3）薄膜基材產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)要少；表面潤(rùn)濕張力大于38dyn/cm。

（4）對(duì)鍍鋁層的粘接性良好；對(duì)于非極性材料，真空鍍鋁前應(yīng)進(jìn)行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。

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怎么測(cè)量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度

1、通常采用下述三種方法來(lái)測(cè)量鍍鋁膜的厚度：

A.光密度法:即以光線透過(guò)鍍鋁膜的密度來(lái)測(cè)量。用光密度法測(cè)量鍍鋁膜的厚度方便、準(zhǔn)確。

B.采用表面方塊電阻測(cè)量法，這種方法比較簡(jiǎn)單實(shí)用。通常來(lái)說(shuō)，鋁層厚度對(duì)應(yīng)的表面電阻一般在1~2之間。

C.目測(cè)估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對(duì)著日光燈或天空看，以看不見(jiàn)的光線為準(zhǔn)，鍍層厚度應(yīng)達(dá)400?以上。

2、鍍鋁牢度

一般是用膠帶來(lái)檢測(cè)鍍鋁牢度的。

具體方法為：把長(zhǎng)約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強(qiáng)光的燈箱檢驗(yàn)鋁層脫落轉(zhuǎn)移的情況便可。

或者把一種特別制備的試驗(yàn)?zāi)づcPET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗(yàn)機(jī)剝離，彩色鍍鋁膜批發(fā)，測(cè)定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉(zhuǎn)移情況。

3、鍍鋁膜鍍層的均勻度

電阻層電阻的偏差，實(shí)際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測(cè)樣品橫向等距離地取8~10個(gè)規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測(cè)量?jī)x分別測(cè)出方塊的電阻值，取其算數(shù)平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計(jì)算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。

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