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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，襄陽彩色鍍鋁膜，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，彩色鍍鋁膜價格，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。

濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），彩色鍍鋁膜批發(fā)，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，彩色鍍鋁膜生產(chǎn)，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復(fù)合軟包裝材料，其中常用的加工方法當(dāng)數(shù)真空鍍鋁法，就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁融化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。

鍍鋁膜指的是通過真空鍍鋁機(jī)在專用型基材薄膜上，利用高溫將鋁氣化沉淀的原理進(jìn)行蒸鍍生產(chǎn)的薄膜，鍍鋁膜具有亮閃閃的外觀，近似于鋁箔，一般被鍍鋁的基材主要有三類：OPP和CPP、PET，鍍鋁膜具有一定的阻隔性能，要優(yōu)于未鍍鋁前。其實鍍鋁膜就是將塑料薄膜，如PET薄膜，OPP薄膜，PVC薄膜，當(dāng)然還有別的薄膜，都可以，置入真空鍍鋁機(jī)。

鍍鋁膜由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬的特性，是一種價廉美觀、性能優(yōu)良、實用性強(qiáng)的包裝材料，因此，鍍鋁膜已經(jīng)被廣泛地應(yīng)用于食品、醫(yī)l藥、化工等產(chǎn)品的包裝，比如快餐食品、茶葉、咖啡和化妝品的包裝.

鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性，不但對氧氣和水蒸汽有較強(qiáng)的阻隔性，而且?guī)缀蹩梢宰韪羲械淖贤饩€、可見光和紅外線，可以延長內(nèi)容物的保存期和貨架壽命，此外，鍍鋁膜還具有保香性，香氣透過率小，能夠長久保持內(nèi)容物的香氣不散失。因此，鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。

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